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半导体晶圆划片废水怎么处理方法|半导体晶圆划片废水处理案例

活动背景图案 该厂家公司为亚洲先进的半导体材料公测厂家公司,设在珠半圆地段,最主要确定高档集成ic的划区和封装形式测评。是由于各地健康特殊要求严谨,厂家公司定施行工业废水零排污建筑工程。投資项目于202几年再启动,202几年6月开工建设投入运营,补救的规模为200吨/日,总投資约2000余万元。 生产废水组成成分及来历 本次目标片区废水处理工艺具备着以內优缺点: 高渗透压氟化物,核心基晶圆分割后的清洁工作工艺流程,氟亚铁离子渗透压高达hg150-200mg/L 富含微米级硅粉颗粒肥料,孔径多在100-500nm之間 充分热负荷较高,COD在500-800mg/L 有氢化物发生器天价属如铅、镉等 纯水电导率高,大部分在2000-3000μS/cm 清理工艺设备环节 为变现零的排放计划,生产技术方案强调综合考虑化工废水区分抽取和資源收废: 生活污水各类持续模式 :将含氟污化工废水 与别的污化工废水 分类建立自身 化学工业沉积除氟 :适用多级钙盐积淀法,搭配提高效率积淀池 高层硫化清理 :嗅氧催化剂的作用空气氧化生物降解难正确处理巧妙物 膜沉淀整体 :进行DTRO碟管式反融入,萃取公因数为10倍 汽化晶体 :MVR设备减小空气再减小蒸发掉器处理浓水 干涩控制系统 :将沉淀盐晾干后是工业品副设备外售 除理目的 软件系统操作数据文件出现: 氟化物的还原率>99.9%,出水量氟铁离子<1mg/L COD总消除率>98%,喷水COD<20mg/L 水市场二手回产出率>95%,仅引发一少部分成果盐 一年可收购 高口感回收水约10万吨 凝结盐含量完成工业园级标准单位,达到产品化采用 好项目不只建立了废渣零废气排放,还经过信息收购 創造了约80万块人民币/年的额外的效益。

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