半导体晶圆划片废水怎么处理方法|半导体晶圆划片废水处理案例
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该厂家公司为亚洲先进的半导体材料公测厂家公司,设在珠半圆地段,最主要确定高档集成ic的划区和封装形式测评。是由于各地健康特殊要求严谨,厂家公司定施行工业废水零排污建筑工程。投資项目于202几年再启动,202几年6月开工建设投入运营,补救的规模为200吨/日,总投資约2000余万元。
生产废水组成成分及来历
本次目标片区废水处理工艺具备着以內优缺点:
高渗透压氟化物,核心基晶圆分割后的清洁工作工艺流程,氟亚铁离子渗透压高达hg150-200mg/L
富含微米级硅粉颗粒肥料,孔径多在100-500nm之間
充分热负荷较高,COD在500-800mg/L
有氢化物发生器天价属如铅、镉等
纯水电导率高,大部分在2000-3000μS/cm
清理工艺设备环节
为变现零的排放计划,生产技术方案强调综合考虑化工废水区分抽取和資源收废:
生活污水各类持续模式
:将含氟污化工废水 与别的污化工废水 分类建立自身
化学工业沉积除氟
:适用多级钙盐积淀法,搭配提高效率积淀池
高层硫化清理
:嗅氧催化剂的作用空气氧化生物降解难正确处理巧妙物
膜沉淀整体
:进行DTRO碟管式反融入,萃取公因数为10倍
汽化晶体
:MVR设备减小空气再减小蒸发掉器处理浓水
干涩控制系统
:将沉淀盐晾干后是工业品副设备外售
除理目的
软件系统操作数据文件出现:
氟化物的还原率>99.9%,出水量氟铁离子<1mg/L
COD总消除率>98%,喷水COD<20mg/L
水市场二手回产出率>95%,仅引发一少部分成果盐
一年可收购 高口感回收水约10万吨
凝结盐含量完成工业园级标准单位,达到产品化采用
好项目不只建立了废渣零废气排放,还经过信息收购 創造了约80万块人民币/年的额外的效益。